三靶射频磁控溅射镀膜仪 - 亚洲城游戏(中国)有限公司

VTC-3RF 三靶射频磁控溅射镀膜仪

应用范围：VTC-3RF三靶射频磁控溅射镀膜仪，配有磁控等离子溅射头和射频（RF）等离子电源，此款设备主要用于制作非导电薄膜，特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索，它是一款廉价并且高效的实验帮手。

产品型号：VTC-3RF

上架时间：2019-08-16

安装尺寸：700mm L x 770 mm W x 1900 mm H

重量：80Kg（不包括泵）

A^-A⁺

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VTC-3RF三靶射频磁控溅射镀膜仪，配有磁控等离子溅射头和射频（RF）等离子电源，此款设备主要用于制作非导电薄膜，特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索，它是一款廉价并且高效的实验帮手。

性能指标和基本配置
主要特点	● 标配的石英腔体（也可选配金属腔体）方便观察（图1） ● 相比传统溅射仪，体积小巧，拆装方便（图2） ● 模块化设计，靶头，电源等多种可选，自由DIY（图3） ● 基台可旋转可加热 ● 可溅射金属和氧化物。实验室已初步制备了氧化锌、碲化铋、ITO、ATO、AU、Ag、Cu、Al、Mg、Sc等薄膜。图1 图2 图3
基本参数	● 输入电源：220V AC50/60Hz ● 设备功率：<1500W ● 靶台加热温度：500℃ ● 样品台转速：0-10r/min ● 靶头可调倾角：0-25度 ● 溅射腔体尺寸：278mm OD x 272mm ID x310mm H。 ● 靶材尺寸要求：1英寸磁控溅射靶头Φ25.4mm ×（0.1-3）mm(厚度） 2英寸磁控溅射靶头Φ50mm ×（0.1-3）mm(厚度) ● 最高使用功率：1英寸磁控溅射靶头100W 2英寸磁控溅射靶头300W
机体结构	● 设备配备三个直流射频通用靶头，1英寸2英寸尺寸可选。 ● 仪器中安装有直径为50mm的不锈钢可旋转样品台，最高加热温度是500℃（图1） ● 配有300W自动匹配射频电源和500W的直流溅射电源（可自由选择）（图2） ● 设备上配1/4英寸进气口方便连接气瓶（图3） ● 配有靶头电动升降台（图4） ● 配有高纯石英密封罩（图5）图1 图2 图3 图4 图5
产品尺寸	700mm L x 770 mm W x 1900 mm H
净重	80 kg（不包括泵）
认证	CE认证
保修期	一年保修，终身技术支持。特别提示： 1.耗材部分如加热元件，石英管，样品坩埚等不包含在内。 2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内

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